Çin, ilk 28nm litografi makinesini başarıyla üretti!
Çin, yarı iletken teknolojisinde bağımsızlığını pekiştirmeyi hedefliyor. ABD'nin uyguladığı ticaret kısıtlamalarıyla zor bir dönemden geçen ülke, kendi 28nm litografi makinesinin üretimini başarıyla gerçekleştirdiğini duyurdu.
Çin'deki litografi devi Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), yüksek beklentilere sahip olan 28nm sınıfı litografi tarayıcısının yıl sonunda kullanıma sunulacağını duyurdu. Bu bilgi resmi bir onay almasa da, Çin basınında geniş yankı buldu. Bu gelişme, Çin’in yarı iletken sektöründeki dış bağımlılığı azaltma hedefi doğrultusunda atılmış kritik bir adım olarak görülüyor.
Litografi Alanında Çin Rüzgarı
Bugüne kadar SMEE’nin en üst teknolojiye sahip tarayıcısı sadece 90nm ve daha yüksek üretim süreçlerinde çalışabiliyordu. Fakat yeni 28nm litografi makinesi, Çinli yonga üreticilerinin birçok gelişmiş teknolojide yerli üretim kapasitesine sahip olmalarını mümkün kılabilir.
Bu hareket, Çin'in yarı iletken sektöründe kendi kendine yetebilme ve uluslararası teknoloji bağımlılığını kırmak istediği bir dizi stratejik hamlenin parçası olarak görülüyor. Ancak, SMEE'nin bu yeni ekipmanı ne kadar sürede geniş ölçekte üretebileceği ve piyasadaki devler ASML, Canon ve Nikon'un yerini alabilecek kapasiteye ne zaman ulaşacağı henüz bilinmiyor. Ancak bu, SMEE'nin yarı iletken alanında Çin'in lider firması olma hedefine doğru büyük bir adım.
ABD'nin katı ihracat kısıtlamaları, Çinli yonga üreticilerinin 14nm/16nm ve altı yüksek kalitede transistörlü mantık yongaları, 127 katmanlı ve üzeri 3D NAND yongaları ve 18nm altı DRAM teknolojilerini geliştirmek için ihtiyaç duyduğu araçlara ve malzemelere erişimini engelliyor. Bu yılın başlarında, Hollanda, Japonya ve Tayvan gibi ülkelerin de bu kısıtlamaları benimsemesi, Çin’in ileri teknolojiye erişiminin daha da zorlaşmasına neden oldu.
